小九直播回放-有一手生产加工、定做多种聚乙烯板材

  • 俄罗斯在光刻技术领域取得突破，有望减少对ASML等外国光刻机的依赖。

  假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用来生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻装置，另一个是硅的等离子体化学刻蚀设备。

  具体来说，无光罩纳米光刻设备成本在500万卢布（约合36.6万人民币）以内，相当于中国一辆质量良好的车，而外国类似平台成本则高出十倍，要花费数十亿卢布。据开发人员称，传统光刻技术需要用专门掩模版来获取图像，该装置则由专业软件控制，实现完全自动化。

  硅的等离子体化学刻蚀设备则用在光刻工序之后，可直接用于形成纳米结构，也能制作硅模，如用于船舶的超压传感器。在此类装置上制造的“在可靠性和灵敏度上都高于液体或激光蚀刻方法的膜。”他们还强调，这是一种完全国产的产品。

  这也引发EEWorld坛友讨论*。俄罗斯所说的光刻机究竟是什么？国内有吗？

  先不谈技术，其实俄媒CNews是一个很“咋呼”的媒体，时常传出重大突破的新闻，可能比我们国内某些标题党还厉害。让我们先“品鉴”一下俄罗斯的光刻“突破”之路：

  2022年4月，CNews称，莫斯科电子技术学院（MIET）承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。

  研发光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源的无掩模X射线月，CNews又称，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所

  在积极研发可生成7nm芯片的光刻机，而当时的专家还指出，在输出方面，同等辐射源功率下，俄罗斯的设备效率比ASML高1.5倍～2倍。

  CNews指出，IPF RAS计划在六年内打造出俄罗斯自产7nm光刻机的工业样机，2024年将创建一台“Alpha机器”，2026创建“测试机”，2026年～2028年俄罗斯本土光刻机将获得更强大的辐射源，改进的定位和进给系统，并将开始全面的工作，2028年，这些设备全面运行。

  2023 年3月，CNews又称，俄罗斯工贸部下令开发和开发用于微电子生产的光刻材料，特别是光刻胶生产，该部将为这项工作支付11亿卢布。

  当然，CNews也并非绝对没“理性”。该媒在文章中指出：“众所周知，截至2023年10月，

  这个工艺在近20年前就已经过时了。现在，一个28nm工厂的建设正在进行中，这一技术过程早已失去了相关性——4nm技术过程早已被掌握，并于2023年向3nm过渡。”

  我们都知道，科学成果与实际应用存在“时差”，成果转化可能没有想象中那么快。无论是俄罗斯，还是全世界，都迫切希望可以不被ASML卡脖子。那么俄罗斯的思路能行吗？

  在《EUV光刻新突破，是不是真的？》一文中，EEworld曾为读者解释，光学光刻等于是经过历史层层筛选，最终胜出的技术，并从紫外光刻技术

  （EUV）不断向前延伸，其波长也从436nm、365nm、248nm，不断向193nm、13.5nm不断延伸。除了光学光刻，大部分光刻技术都不能满足大规模生产需求，直写光刻这种技术，一般又大多做掩模版或定制化芯片。

  ，就相当于是生产芯片的底片，它相当于是用设计出来的芯片图纸，做成一个比芯片大十倍或者百倍的底片，再通过光刻机各种光学照射，照射到芯片上，此后就是我们熟悉的涂覆光刻胶、刻蚀之类的步骤。

  掩模成本很高，在16/14nm制程中，掩模成本在500万美元左右，7nm制程成本就会到达1500万美元。

  很多光刻都是直写光刻，分成两类：一种是基于带电粒子的直写光刻（CPML）

  （OML），包括干涉光刻、激光直写光刻、基于空间光调节器的光刻技术等。但是这些技术为什么只用来造掩模版呢？

  有得必有失，虽然有了不用掩模的优点，但生产效率低是致命的。如果按照这一个速度生产，不仅产量低，芯片也会贵到让普通人买不起。

  所以，科学家和产业界非常富有想象力了，用直写光刻造一些掩模，再放进EUV光科机里大批量生产芯片，非常“套娃”，不过管用。

  ，因为花大价钱造好的掩模是无法修改的，所以直写光刻会在这些领域拥有许多重要用途。

  科普一下：X射线又称伦琴射线，是一种波长介于紫外线与γ射线之间的电磁波，波长约为0.01~10nm，其能量范围为100eV~100keV。根据能量高低可大致分为硬X射线nm以下的称之为硬X射线nm则称之为软X射线。

  光从表面的参数来看，X射线光刻确实比ASML还要先进，甚至ASML都做不出来。但可惜的是，现在这项技术的实际生产速率也慢得没朋友。

  所以，除了EUV，我们没任何其它手段了吗？那也未必，纳米压印光刻是现在离产业化比较近的一个。

  （IRDS）中，我们大家可以看到都有一个纳米压印光刻技术与EUV光刻并列在一起，但2022年的IRDS中，又删除了这张路线图，为何会这样？

  纳米压印是一种采用传统机械模具微复型原理的光刻技术。简单来说，就是大力出奇迹，就像盖章一样，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上，再将印章盖在橡皮泥上，得到与印章相反的图案，经过脱模就能获得一颗芯片。

  纳米压印光刻到底会不会进入产业中，我们大家可以继续关注IRDS，如果2024年IRDS又把纳米压印光刻放回来，也许就代表技术逐渐成熟了。

  总结来说，EUV光刻机之所以成为现在的王者，是因为它本身能投入大规模生产，而且成本和良率极佳。虽然我们有其它光刻路径能走，但唯一比较接近希望的也只有纳米压印光刻。科学还在不断向前发展，纳米制程也一直在向前，未来当纳米数突破1nm，又有哪种光刻技术胜出，也未可知。

  从俄罗斯方面来看，虽然有些新闻看似有点“可笑”，但面对卡脖子，他们没停止，这种精神值得褒奖。光刻机本来就是全世界的成果结晶，若能够一直持续投入下去，并不断研究新技术，最终在历史上胜出的那个，一定会得到所有人的尊重。

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