小九直播回放-有一手生产加工、定做多种聚乙烯板材
多种链条导轨、PP板、聚乙烯板材、尼龙制品等产品![小九直播回放](/ms/static/picture/tel.jpg)
• 俄罗斯在光刻技术领域取得突破,有望减少对ASML等外国光刻机的依赖。
假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用来生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻装置,另一个是硅的等离子体化学刻蚀设备。
具体来说,无光罩纳米光刻设备成本在500万卢布(约合36.6万人民币)以内,相当于中国一辆质量良好的车,而外国类似平台成本则高出十倍,要花费数十亿卢布。据开发人员称,传统光刻技术需要用专门掩模版来获取图像,该装置则由专业软件控制,实现完全自动化。
硅的等离子体化学刻蚀设备则用在光刻工序之后,可直接用于形成纳米结构,也能制作硅模,如用于船舶的超压传感器。在此类装置上制造的“在可靠性和灵敏度上都高于液体或激光蚀刻方法的膜。”他们还强调,这是一种完全国产的产品。
这也引发EEWorld坛友讨论*。俄罗斯所说的光刻机究竟是什么?国内有吗?
先不谈技术,其实俄媒CNews是一个很“咋呼”的媒体,时常传出重大突破的新闻,可能比我们国内某些标题党还厉害。让我们先“品鉴”一下俄罗斯的光刻“突破”之路:
2022年4月,CNews称,莫斯科电子技术学院(MIET)承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目,该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金(约合5100万元人民币)。
研发光刻机计划达到EUV级别,但技术原理完全不同,是基于同步加速器和/或等离子体源的无掩模X射线月,CNews又称,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所
在积极研发可生成7nm芯片的光刻机,而当时的专家还指出,在输出方面,同等辐射源功率下,俄罗斯的设备效率比ASML高1.5倍~2倍。
CNews指出,IPF RAS计划在六年内打造出俄罗斯自产7nm光刻机的工业样机,2024年将创建一台“Alpha机器”,2026创建“测试机”,2026年~2028年俄罗斯本土光刻机将获得更强大的辐射源,改进的定位和进给系统,并将开始全面的工作,2028年,这些设备全面运行。
2023 年3月,CNews又称,俄罗斯工贸部下令开发和开发用于微电子生产的光刻材料,特别是光刻胶生产,该部将为这项工作支付11亿卢布。
当然,CNews也并非绝对没“理性”。该媒在文章中指出:“众所周知,截至2023年10月,
这个工艺在近20年前就已经过时了。现在,一个28nm工厂的建设正在进行中,这一技术过程早已失去了相关性——4nm技术过程早已被掌握,并于2023年向3nm过渡。”
我们都知道,科学成果与实际应用存在“时差”,成果转化可能没有想象中那么快。无论是俄罗斯,还是全世界,都迫切希望可以不被ASML卡脖子。那么俄罗斯的思路能行吗?
在《EUV光刻新突破,是不是真的?》一文中,EEworld曾为读者解释,光学光刻等于是经过历史层层筛选,最终胜出的技术,并从紫外光刻技术
(EUV)不断向前延伸,其波长也从436nm、365nm、248nm,不断向193nm、13.5nm不断延伸。除了光学光刻,大部分光刻技术都不能满足大规模生产需求,直写光刻这种技术,一般又大多做掩模版或定制化芯片。
,就相当于是生产芯片的底片,它相当于是用设计出来的芯片图纸,做成一个比芯片大十倍或者百倍的底片,再通过光刻机各种光学照射,照射到芯片上,此后就是我们熟悉的涂覆光刻胶、刻蚀之类的步骤。
掩模成本很高,在16/14nm制程中,掩模成本在500万美元左右,7nm制程成本就会到达1500万美元。
很多光刻都是直写光刻,分成两类:一种是基于带电粒子的直写光刻(CPML)
(OML),包括干涉光刻、激光直写光刻、基于空间光调节器的光刻技术等。但是这些技术为什么只用来造掩模版呢?
有得必有失,虽然有了不用掩模的优点,但生产效率低是致命的。如果按照这一个速度生产,不仅产量低,芯片也会贵到让普通人买不起。
所以,科学家和产业界非常富有想象力了,用直写光刻造一些掩模,再放进EUV光科机里大批量生产芯片,非常“套娃”,不过管用。
,因为花大价钱造好的掩模是无法修改的,所以直写光刻会在这些领域拥有许多重要用途。
科普一下:X射线又称伦琴射线,是一种波长介于紫外线与γ射线之间的电磁波,波长约为0.01~10nm,其能量范围为100eV~100keV。根据能量高低可大致分为硬X射线nm以下的称之为硬X射线nm则称之为软X射线。
光从表面的参数来看,X射线光刻确实比ASML还要先进,甚至ASML都做不出来。但可惜的是,现在这项技术的实际生产速率也慢得没朋友。
所以,除了EUV,我们没任何其它手段了吗?那也未必,纳米压印光刻是现在离产业化比较近的一个。
(IRDS)中,我们大家可以看到都有一个纳米压印光刻技术与EUV光刻并列在一起,但2022年的IRDS中,又删除了这张路线图,为何会这样?
纳米压印是一种采用传统机械模具微复型原理的光刻技术。简单来说,就是大力出奇迹,就像盖章一样,把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上,再将印章盖在橡皮泥上,得到与印章相反的图案,经过脱模就能获得一颗芯片。
纳米压印光刻到底会不会进入产业中,我们大家可以继续关注IRDS,如果2024年IRDS又把纳米压印光刻放回来,也许就代表技术逐渐成熟了。
总结来说,EUV光刻机之所以成为现在的王者,是因为它本身能投入大规模生产,而且成本和良率极佳。虽然我们有其它光刻路径能走,但唯一比较接近希望的也只有纳米压印光刻。科学还在不断向前发展,纳米制程也一直在向前,未来当纳米数突破1nm,又有哪种光刻技术胜出,也未可知。
从俄罗斯方面来看,虽然有些新闻看似有点“可笑”,但面对卡脖子,他们没停止,这种精神值得褒奖。光刻机本来就是全世界的成果结晶,若能够一直持续投入下去,并不断研究新技术,最终在历史上胜出的那个,一定会得到所有人的尊重。
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